超高纯供气系统的选择分类；

一、简易供气体系。

简易供气体系重要针对4英寸及以下半导体晶片厂、半导体材料研究机构和部分单机加工设备等。其生产工艺简单，一样平常不要求延续供气，燃气供给体系投资预算低。

气源中的特别气体，因为其流量小，不常使用，多采用通俗钢瓶(<50L)。输送机多采用半主动气瓶柜或气瓶架，并配有简易控制面板；配有继电器控制、主动切换、手动吹扫、手动放空、有害气体配有紧急切断阀。惯性气体瓶架采用全手动体系，有的甚至采用单瓶体系。与气室共用，甚至不与气室共用，特气钢瓶和输送体系偶然放置在回风夹道，或直接放置在工艺制造设备的隔壁。如无特别有害气体，一样平常共用抽气体系。简易供气体系每每存在安全隐患。

二、常规供气体系。

传统的供气体系重要应用于4-6英寸LMIC厂、50MW以下太阳能电池生产线、LED芯片生产线和其他用气适中规模的电子工业。在保证安全性的前提下，体系配置尽量简单易行，节约投资，对气体纯度控制要求不高。

用通俗钢瓶供气特别气体(小于50L)。专用运输体系采用气瓶柜。配有全主动PLC控制器，彩色触摸屏；气动面板采用气动阀门和压力传感器，可实现主动切换，主动排氮，主动真空辅助排氮；多种安全珍爱，检漏，长途紧急切断；专用氮气扫源等。在VMB上采用气动支路阀，氮气净化，真空辅助排空。多采用半主动气瓶架、继电器控制、主动切换、手动吹扫、手动排空；VMB监控气动阀、氮气吹扫；支路气动阀、氮气吹扫、真空辅助排空。气室和抽气体系按气体的性子分类。

三、大容量特气体系。

大容量供气体系重要适用于8-12英寸(1英寸=25.4毫米)的大规模生产超大规模集成电路厂(SiH4、N2O、2、C2F6、NH3等)、超过100MW的太阳能电池生产线(SIH4、CL2、NH3等)、发光二极管的Hi-CL4、Si-CL4、Si-CL4、Si-Cl4、Si-Cl4、Si-Cl4、Si-Cl4等，以及硅材料外延生产线(Si-Cl3等)和5代液晶表现器生产线(HCL)。其投资规模重大，采用的超高纯供气体系施工工艺加工设备，用气量大，对稳固和不间断供给，对纯度控制和安全生产要求严酷。

除通俗钢瓶(50L及以下)所包装的特别气体外，在这些工厂中，很多种类的特别气体都广泛采用了大型包装容器，因此被称为是大型特别气体，其中包括Y-钢瓶(450L)、T-钢瓶(980L)、Customer(940L)、ISO罐(22,500L)、鱼雷车(13,400L)等。

大型气体系采用全主动PLC控制，彩色触摸屏控制；气面板采用气动阀门和压力传感器，实现主动切换，主动氮吹扫，主动真空辅助放空；多种安全珍爱，探测走漏，长途紧急切断；专用氮吹扫电源等。特别气体采用自力的气源，多用点由VMB或VMP分路供给，VMB或VMP采用气动支路阀门，氮气净化，真空辅助排空等。气源总量较大，BSGS多采用自力气室，自力抽气体系。